硅化铪粉

基本信息

中文名称：硅化铪粉

英文名称：Hafnium silicide powder

分子式：HfSi₂

分子量：242.62

CAS#：12070-14-3

熔点：1680℃

密度（20℃）：8.02 g/cm³

外观形态：黑色粉体

溶解度：它不溶于水，溶于氢氟酸。

储存方法：储存于阴凉、通风的库房，切忌混储，保持容器密封，远离火种，库房必须安装避雷设备。

产品用途

硅化铪粉是一种过渡金属硅化物，是一类难熔的金属间化合物，因其独特的物理和化学性质而被成功应用于互补金属氧化物半导体元件、薄膜涂层、块体结构组件、电热元件、热电材料和光伏材料等领域。硅化铪纳米材料在催化领域具有潜在的应用。硅化铪产品具有纯度高、粒度小、分布均匀、比表面积大和表面活性高的特点。

（1）硅化铪最常用于陶瓷材料中，用于制造各种高温部件和功能部件；

（2）可制备碳化硅–硅化铪–硅化钽(SiC–HfSi₂–TaSi₂)抗烧蚀复合涂层碳纤维增强碳(C/C)复合材料，可用于燃气涡轮发动机结构部件、航天飞机的鼻锥帽、机翼前缘等，这些部件大都在高温和氧化的环境下工作；

（3）可制备一种有机电致发光器件。包括依次层叠的阳极、发光层、阴极及封装盖，封装盖将发光层及阴极封装于阳极上，所述封装盖包括碳氮化硅层及形成于所述碳氮化硅层表面的阻挡层；

（4）可制备一种硅锗合金基热电元件，硅锗合金基热电元件中各界面结合良好，界面处未见裂纹与明显的扩散现象存在，接触电阻小，热接触状态好，且能够经受长时间的高温加速试验；

（5）制备一种耐高温抗氧化金属陶瓷复合涂层，该复合薄膜特征在于该涂层由难熔金属、难熔碳化物和金属间化合物组成，涂层厚度为10 μm ~ 50 μm；

产品优势

福斯曼硅化铪粉产品可提供纳米级别、亚微米级别、微米级别等不同粒度的产品。

已实现工业化生产的硅化铪粉产品粒度有0.6 μm，0.8 μm，5-10 μm，200 nm。纯度可达95 %，99 %，99.5 %。

针对实验室需求，我们一般有10 g，50 g，250 g，500 g，1 kg，25kg，100kg等包装规格，以满足实验室研究用户的需求，可以按照客户投料数量定制包装规格。

产品展示

图 | 7206004 硅化铪粉 0.8 μm

图 | 7206004 硅化铪粉 0.8 μm XRD

图 | 7206004 硅化铪粉 0.8 μm  SEM 

图 | 硅化铪粉产品包装